Die teuerste Maschine der Welt kostet gut 350 Millionen Euro und China kann sie nicht bauen – jetzt schätzt einer der Hersteller ein, wie lange das noch so bleibt

Für ASMLs EUV-Lithografiemaschine liefert Zeiss die Optik – vor China macht man sich keine Sorgen. (Bildquelle: ASML)

Auf der Chipmesse »Semicon Taiwan« treffen sich jedes Jahr die wichtigsten Zulieferer der Halbleiterbranche. Auch Zeiss war vor Ort: Der deutsche Konzern liefert exklusiv die Optik für EUV-Lithografimaschinen von ASML – dem weltweit einzigen Hersteller solcher Anlagen.

Als Vertreter war Frank Rohmund dabei, der die Halbleitersparte des Zeiss-Konzerns leitet – und sich über aufkeimende Konkurrenz aus China äußerte

Auf Anfrage von Bloomberg erklärte er, dass China noch 15 Jahre von einer eigenen EUV-Lithografimaschine entfernt sei, auch wenn sich der tatsächliche Fortschritt kaum seriöse beziffern lasse.

ASMLs neueste EUV-Generation, bekannt als High-NA-EUV, gilt mit einem Preis von rund 350 Millionen Euro pro Analgae als teuerste in Serie gefertigte Maschine der Welt. Möglich wird die Präzision solcher Anlagen erst durch die Optik von Zeiss aus dem baden-württembergischen Oberkochen, die die Spiegel und Linsen bauen, die das UV-Licht exakt auf den Wafer lenken.

Nach Unternehmensangaben stecken Zeiss-Komponenten in rund 80 Prozent aller weltweit produzierten Chips. Nach China verkaufen darf ASML seine EUV-Maschinen wegen der von Washington verhängten Exportbeschränkungen aber nicht – unabhängig davon, ob China sie bauen könnte.

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Aktuelle Analysen schlagen in die gleiche Kerbe

Die Marktanalysten von UBS sehen China ähnlich weit im Hintertreffen. Als Beleg dient dem Team rund um Francois-Xavier Bouvignies (via Bloomberg) unter anderem die Zahl der chinesischen Patente in zwei Teilbereichen, nämlich Laser und Lichttechnik.

Demnach sei der chinesische Stand aktuell mit dem zu vergleichen, auf dem ASML im Jahr 2004 stand – ziemlich exakt fünfzehn Jahre, bevor der niederländische Konzern damit begann, EUV-Anlagen in Serie zu produzieren.
Selbst wenn China in den kommenden Jahren eigene EUV-Maschinen bauen sollte, dürften die Geräte laut UBS zunächst im Land bleiben: Ausbeute und Durchsatz lägen mutmaßlich unter ASML-Niveau; hinzu kämen regulatorische Hürden für einen Export.

Bei der weniger fortschrittlichen DUV-Technik sehe die Lage hingegen schon anders aus. Schon innerhalb der nächsten zwei bis fünf Jahre könnte China laut UBS genug eigene Immersions-DUV-Anlagen bauen, um von einer echten Serienproduktion sprechen zu können.

Dafür gibt es schon erste Anzeichen: Berichten zufolge arbeitet das staatliche Unternehmen Shanghai Aishengna an eigenen Immersions-DUV-Maschinen – fünf Anlagen in diesem und 20 Anlagen im kommenden Jahr sind das erklärte Ziel.

Mehr dazu findet ihr hier: Die europäische Firma, von der die Zukunft der gesamten Halbleiterindustrie abhängt, bekommt (noch) keine starke Konkurrenz aus China

Auch deshalb hält Rohmund wenig davon, die erwähnten Exportbeschränkungen künftig auf ältere DUV-Modelle auszuweiten.

Gegenüber Bloomberg erklärte der Zeiss-Vertreter, dass er nicht an einen positiven Effekt solcher Restriktionen glaube, stattdessen würden sie die Innovation in China eher beschleunigen. Natürlich sehe sich Zeiss bei der aktuellen Technik trotzdem weiterhin klar vorn.