Die europäische Firma, von der die Zukunft der gesamten Halbleiterindustrie abhängt, bekommt (noch) keine starke Konkurrenz aus China

Ein Lithografiesystem von ASML: Der niederländische Konzern liefert die Belichtungsmaschinen für nahezu die gesamte Halbleiterindustrie.

Ein niederländisches Unternehmen, das außerhalb der Branche kaum jemand auf dem Schirm hat, entscheidet seit Jahren darüber, wie schnell eure nächste Grafikkarte rechnet: ASML baut die Belichtungsmaschinen, ohne die kein moderner Chip entsteht.

Genau an diesem Nadelöhr will China vorbei. Ein staatlich gestützter Hersteller in Shanghai fertigt erstmals eigene Immersions-DUV-Belichter in Serie, wie Reuters berichtete. DUV steht an dieser Stelle für »Deep Ultraviolet« – also Belichtung mit tiefem Ultraviolettlicht. Nur: Vom Fleck kommt Peking damit vorerst kaum. Das zeigt schon ein Blick auf die Stückzahlen.

Shanghai Aishengna: fünf Maschinen gegen 130

Hinter dem Gerät steckt die Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, ein Staatsunternehmen mit Verbindungen zu Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) und zur Shanghai Electric Group (via Wccftech). Gegründet wurde die Firma im August 2023.

• Rund fünf Maschinen sollen 2026 vom Band laufen, etwa 20 im Jahr darauf. Als erste Abnehmer werden SMIC, Hua Hong Semiconductor und der Speicherhersteller CXMT genannt (via Tom's Hardware).
• Zum Vergleich: Marktführer ASML rechnet nach Angaben von Finanzchef Roger Dassen für 2026 mit rund 130 ausgelieferten Immersionssystemen – und will die Kapazität 2027 um 30 Prozent aufstocken.

Chinas Anteil an ASMLs Umsatz schrumpft ohnehin

Im ersten Halbjahr 2026 entfielen ASML zufolge 16 Prozent des Umsatzes auf China (rund 2,6 Milliarden Euro), das damit Rang drei hinter Taiwan und Südkorea belegt.

2025 lag der chinesische Anteil noch bei 33 Prozent. Der Rückgang hat zumindest in diesem Kontext also bereits begonnen, bevor die erste heimische Maschine überhaupt ausgeliefert wurde.

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Wasser als Linse: Was ein Immersionsscanner leistet

Bei der Immersionslithografie sitzt zwischen Objektiv und Wafer ein dünner Wasserfilm. Der bricht das Licht stärker als Luft und erlaubt damit feinere Strukturen, als es die Wellenlänge allein hergeben würde.

• Mehrfachstrukturierung heißt der Trick, mit dem Immersionsscanner bis auf sieben Nanometer herunterkommen – bezahlt wird er mit Überlagerungsfehlern, schlechterer Ausbeute und höheren Kosten je Wafer. Ohne diesen Umweg endet ein einzelner Belichtungsschritt bei der 28-Nanometer-Klasse.
• Und hier liegt für die chinesische Industrie offensichtlich der Hase im Pfeffer: Eine Maschine zu bauen ist das eine, sie über Monate hinweg für eine laufende Produktionslinie zu qualifizieren das andere.

Wie ASML überhaupt in seine Machtposition geriet, haben wir uns schon einmal in Ruhe angesehen: Von diesem Unternehmen hängt die Zukunft der gesamten Halbleiterindustrie ab - und kaum jemand kennt es

Wann aus dem Prototyp echte Konkurrenz werden könnte

Analysten verorten chinesische Immersions-DUV-Technik im kommerziellen Maßstab erst in der Mitte der 2030er Jahre; ASML hält demnach 98,7 Prozent dieses Marktes. Chinas eigenes EUV-Programm existiert bislang lediglich als Prototyp, die Serienfertigung wird laut Berichten aus China um 2030 angepeilt.