Nvidia RTX 3000 Ampere & RTX 4000: Leak verrät Fertigungsdetails

Nvidias RTX-4000-Generation dürfte noch eine Weile auf sich warten lassen. Produktionskapazitäten anzumieten macht für Nvidia aber jetzt schon Sinn.

Es gibt neue Details zum verwendeten Fertigungsverfahren von Nvidias RTX-3000-GPUs (Ampere) und dem Nachfolger RTX 4000 (Hopper). Das geht aus einem Leak der taiwanischen DigiTimes (Paywall, via Wccftech) hervor.

Zu der RTX-3000-Generation war bislang lediglich bekannt, dass sie in 7 Nanometern und vielleicht sogar per Extreme-Ultraviolet-Verfahren (EUV) produziert werden soll. Einerseits bei Samsung, andererseits auch beim langjährigen Partner TSMC.

Die neuen Infos zu Nvidia Ampere und Hopper

DigiTimes, die als eine industrienahe und verlässliche Quelle gilt, will in Erfahrung gebracht haben, dass Nvidia die RTX-3000-Reihe tatsächlich bei TSMC im 7nm-EUV-Verfahren fertigen lässt.

Aber, so die jüngsten Informationen, möglicherweise nur die Mid- bis High-End-Modelle ab einer vermuteten RTX 3070. Mid- bis Low-End-Modelle bis zu einer vermutlichen RTX 3060 könnten bei Samsung in deren 7nm- beziehungsweise 8nm-EUV-Prozess gefertigt werden.

In Stein gemeißelt ist das zwar noch nicht, in Anbetracht der Konkurrenz-Situation mit AMD könnte es aber durchaus so kommen.

Blockiert AMD die nötigen Kapazitäten? In diesem Zusammenhang geht aus dem Bericht der DigiTimes hervor, dass Nvidia es wohl übersehen habe, sich rechtzeitig ausreichende Produktionskapazitäten bei TSMC zu sichern. Gleichzeitig habe man AMD's ambitioniertes Vorgehen unterschätzt und Produktionskapazitäten dadurch dem Konkurrenten überlassen.

RTX 4000 Hopper

Damit sich ein ähnliches Problem im Falle des Ampere-Nachfolgers mit der vermuteten Bezeichnung Hopper nicht wiederholt, soll Nvidia laut Wccftech bereits frühzeitig 5nm-Kapazitäten für 2021 bei TSMC gebucht haben.

Dabei soll es sich im ebenfalls um ein EUV-Verfahren handeln. Kleinere Stückzahlen könnten aber auch im Falle von Hopper beziehungsweise der RTX-4000-Generation auf Samsungs Produktionslinien entfallen, so der Bericht.

Was bringt das EUV-Verfahren?

Im Gegensatz zum bisherigen Verfahren, das aufgrund der verwendeten Wellenlänge auch als 193-nm-Lithografie bezeichnet wird, kommen für die EUV-Lithografie elektromagnetische Wellen mit einer Länge von 13,5nm zum Einsatz. Dadurch ist es möglich, Strukturen bedeutend kleiner abzubilden als bisher.

Neben der Mikroarchitektur wie etwa Ampere oder Hopper ist vor allem die Verringerung der Strukturbreite respektive das verwendete Fertigungsverfahren für die Verbesserung von Leistung und Effizienz bei Grafikkarten verantwortlich.